Birçok farklı sektörde yapay zekanın kullanımına şahit olduk ancak yakın zamanda duyurulan Runway isimli program çok farklı bir ilke imza atarak yapay zeka ve sanatı bir araya getiriyor. İki Şilili girişimcinin çabalarıyla kurulan platform film, müzik gibi birçok görsel ve işitsel sanat dalına dahil olabilecek algoritmalardan oluşuyor. 2018 yılında New York Üniversitesi’nde temelleri atılan proje, son hali itibariyle makine öğrenimini sanat dünyası ile birleştirip yaratıcılığın sınırlarını zorlamayı hedefliyor.
Sentetik içerik
Sanat alanında teknolojinin kullanımı bazı kesimleri rahatsız etse de projenin liderleri Runway’i yeni nesil bir araç olarak tanımlıyor. Proje liderlerine göre, Runway aslında Photoshop veya Premier gibi bir programdan çok da farklı değil. Yani aslında teknoloji amaca hizmet etmek için kullanılıyor. Bulut altyapısıyla çalışan Runaway sanatçıların üretimlerini ve geliştirdikleri içerikleri zenginleştirmek için onlara destek oluyor. Yapımcılar bunu sentetik içerik olarak tanımlıyor.
Sanatçıya sınırsız olanak
Platformun kurucularından Cristóbal Valenzuela, “Aslında yaptığımız yeni bir şey değil. Alet işler el övünür misali biz de teknoloji ile sanatçıların zamanını alan sıkıcı kısımların yapay zeka algoritmaları ile halledilmesine ve sanatçının eserine odaklanmasına yardım ediyoruz. Video üretim için konuşacak olursak Hollywood’un sahip olduğu imkanları radyo sinema öğrencilerine de tanımış oluyoruz. Sanatla uğraşanlar bazen doğru donanıma sahip olmuyorlar. Runway bu açığı kapatıyor.” diyor.